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Réalisation de Cellules Solaires par Spray

Moussi A.

La technique d’atomisation « spray » est utilisé pour la fabrication de photopiles au silicium à usage terrestre. Des structures n+p et n+pp+ est réalisées avec des sources (liquides) dopantes : le phosphosilica-film comme source de phosphore ( n+) et le borosilica-film comme source de bore (p+). La composition de l’émulsion est variable en la diluant dans de l’éthanol, ce qui nous a permis de contrôler la concentration en surface des impuretés dopantes dans l’émetteur. Cela se traduit par une large gamme de résistivité mesurée par la méthode de la ‘quatre pointes’. Après la réalisation de la structurer n+ p ou bien n+ pp+ (présence d’un champ électrique sur la face BSF), il est réalisé les contacts métalliques sur les deux faces avant et arrière par la technique de sérigraphie. Les cellules sont ensuite caractérisées en mesurant la réponse spectrale Sr(l) et la caractéristique courant-tension (I-V) sous illumination. Les performances obtenues sur une cellule ronde de 10 cm de diamètre sont : une densité de courant de court-circuit Jsc = 21.4 mA/cm2 , une tension de circuit ouvert Voc = 571 mV, un facteur de forme FF = 68 % et un rendement de conversion h = 8,3 %.